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제목 [세메스] 2015 박사 및 경력사원 수시채용
성명 세메스 작성일 2014-12-23 조회 1643
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2015 세메스 박사 및 경력사원 수시채용 공고 세메스는 1993년 설립된 삼성전자 자회사로서 연간 USD 10억 규모의 반도체•디스플레이 첨단장비 제조기업입니다. 우수인재 초빙을 위하여 문을 활짝 열어놓고 있사오니 여러분의 많은 관심과 참여를 기다립니다. 1. 지원기간 - 2015년 연중수시 2. 지원자격 - 학사학위 이상 소지자로 관련분야 최소 8년 이상 경력자 또는 - 박사학위 소지자 및 학위 취득 예정자 3. 모집분야 3-1. 기계 - CAE : 구조/진동 해석, 유동해석(열,유동,기류제어), Modal Test, 최적설계(DOE, 계산시간), 복합장 해석(FSI, 전자기장, Chemical reaction), MD - 구동 System설계(Kinematics/Dynamics, Actuator, 유공압, Motion Control) - 초정밀 Mechanism 설계, System Robust Design, 최적 공차 설계 - 내구신뢰성: Durability Analysis, Test-rig 설계, 가속/가혹 수명평가/분석 3-2. S/W - S/W 구조설계(System, Data) - Motion Control, Embedded System, Smart UI - Big Data, Real-Time OS Scheduler - Image Processing, Vision Algorithm 3-3. 전기전자 - Digital/Analog(High Power) 회로설계 - Embedded CPU용 Firmware개발(EtherCAT, E/IP) - FPGA설계(VHDL, Verilog) 3-4. 재료/화학 - 소재물성분석/평가: 기계적 특성, 표면/내열특성, 내화학/전기적특성 - 내식성/내마모성 부품소재 개발 - 유/무기 합성, 촉매 등 화학반응 분석/해석 3-5. 요소기술 - Etch/Plasma 공정, RF System 최적화, Antenna 설계, Plasma Source개발 - Dielectric Etch / Conductor Etch / Selectivity Chemical 공정 - 초임계 기술 - 반도체 Photo 공정기술 : 박막 Coating, Develop, Drying - 반도체 Cleaning & Drying : 신물질(Ge/Ⅲ-Ⅴ) 세정 메커니즘, Damage Free - 오염 입자, Pattern Defect 연구 4. 지원방법 - 지원서 접수 > 지원서 검토 > 전문성 면접 (채용검진) > 최종결과 발표 - 지원서를 접수하기 위해서는 세메스 홈페이지 > 인재채용 > 입사지원 > 수시지원 클릭 - 지원서 작성 후 경력기술서 양식 입력하여 첨부 (홈페이지 공지사항 내 첨부양식 참고) - 지원서는 수시로 검토되며, 합격자에 한하여 개별 연락 5. 기타 - 허위사실 기재 시에는 채용이 취소될 수 있습니다. - 입사지원자는 지원시점부터 채용전형 전체 과정에 걸쳐 전•현직 직장(학교)의 영업(연구)비밀을 침해하는 일이 없도록 각별히 유의하시기 바랍니다. - 입사지원시 사진 및 자료 첨부에 문제가 있을 경우, 첨부하고자 하는 파일을 하기 이메일로 보내주시기 바랍니다. 6. 문의 - E-Mail : rec.semes@semes.com - TEL : +81-41-620-8013 - Facebook : www.facebook.com/semesrecruiting - Linkedin : www.linkedin.com/company/semes
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